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制冷加熱溫度控制系統 生產環節高低溫系統

簡要描述(shu):【無錫冠(guan)亞】制(zhi)冷(leng)加熱溫度控制(zhi)系(xi)統(tong)(tong) 生(sheng)產環節高低溫系(xi)統(tong)(tong),應(ying)用(yong)于(yu)對玻璃(li)反應(ying)釜(fu)、金屬反應(ying)釜(fu)、生(sheng)物反應(ying)器(qi)進行(xing)升降溫、恒(heng)溫控制(zhi),尤其適合在反應(ying)過(guo)程中有需熱、放熱過(guo)程控制(zhi)。解決化學醫藥工業用(yong)準(zhun)確控溫的特(te)殊裝置,用(yong)以滿足間歇反應(ying)器(qi)溫度控制(zhi)或持續(xu)不斷(duan)的工藝進程的加熱及(ji)冷(leng)卻、恒(heng)溫系(xi)統(tong)(tong)。

  • 產(chan)品型號:SUNDI-175
  • 廠商性(xing)質(zhi):生產廠家
  • 更新時間:2023-12-08
  • 訪(fang)  問  量:103
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區間10萬-20萬
產地類別國產應用領域化工,生物產業,石油,制藥,綜合


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反(fan)應釜(fu)冷熱(re)源(yuan)動態恒(heng)溫控制(zhi)(zhi)、雙(shuang)層(ceng)玻(bo)璃(li)反(fan)應釜(fu)冷熱(re)源(yuan)動態恒(heng)溫控制(zhi)(zhi)、

雙層反應(ying)釜冷(leng)(leng)熱源(yuan)動態恒溫(wen)控(kong)制、微通道反應(ying)器冷(leng)(leng)熱源(yuan)恒溫(wen)控(kong)制;

小(xiao)型(xing)恒溫控制系統、蒸(zheng)飽系統控溫、材料低溫高溫老化(hua)測試、

組(zu)合化學(xue)冷源(yuan)熱(re)源(yuan)恒(heng)溫控制(zhi)、半導體設備冷卻加(jia)熱(re)、真空室制(zhi)冷加(jia)熱(re)恒(heng)溫控制(zhi)



無錫冠亞制冷加熱控溫系(xi)統應用介紹


反應釜配套制冷加熱(re)控(kong)溫系統應用:

反(fan)應釜配套(tao)制冷加熱(re)控溫系(xi)統?泛應于?油、化?、橡膠、染(ran)料、醫藥、?品等?產型用(yong)戶和各種科(ke)研實(shi)驗項?的研究來完成?藝過程的容器(qi)。無(wu)錫冠亞制冷加熱控溫系統控溫時(shi)溫度穩(wen)(wen)定、升降溫速率快、可連續穩(wen)(wen)定運、實時記錄反(fan)應(ying)過程溫(wen)度。

微通道反應(ying)器配套制冷(leng)加熱控溫系統應(ying)用:

微通道反應(ying)器配套制冷加熱(re)控溫(wen)系統可(ke)執不同類型(xing)的反應,可(ke)用(yong)于微(wei)反應丁藝開發及精(jing)細化學(xue)品(pin)合成(cheng)。無錫冠亞制冷加(jia)熱控(kong)溫(wen)系統寬溫(wen)度范圍,?精度智能溫(wen)控(kong),單流(liu)體控(kong)溫(wen),需更導熱介質穩定?產。

新能(neng)源汽車(che)制冷加熱測(ce)試(shi)系統(tong)應(ying)用:

新能源汽?業,制冷(leng)加熱(re)控溫系(xi)統主(zhu)要應在(zai)測試(shi)、檢測臺架和材料(liao)測試(shi)等環(huan)節(jie)。無錫冠亞制冷加熱控溫系統可同時對(dui)多個樣品進行(xing)溫(wen)度(du)控制,控制系統可記(ji)錄與導出(chu)測試(shi)(shi)過(guo)程中的溫(wen)度(du)數據,可滿??部分元件(jian)在特定的溫(wen)度(du)變化條(tiao)件(jian)下測試(shi)(shi)。

半導體行業制冷加熱(re)測試系(xi)統應用:

制冷加熱(re)控溫系統于(yu)半導(dao)體(ti)、LEDLCD、太陽能光(guang)伏(fu)等領域。芯片、模塊、集成電(dian)路板、電(dian)子元器(qi)件(jian)等提供準確(que)且快速的環境溫度。無錫(xi)冠亞(ya)制冷(leng)加熱控溫系(xi)統(tong)是對產品電(dian)性(xing)能測(ce)試(shi)、失效分析、可靠性(xing)評估的儀(yi)器(qi)設備。



型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制(zhi)器

溫控模式選擇

物(wu)料溫度控制與設備出口溫度控制模式(shi) 可(ke)自(zi)由選擇

溫差控制

設(she)備出口溫度(du)與反應物料溫度(du)的溫差可(ke)控制、可(ke)設(she)定

程序編輯

可(ke)編(bian)制5條程序,每條程序可(ke)編(bian)制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議(yi)  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱(re)介質(zhi) 溫(wen)度、出口溫(wen)度、反(fan)應(ying)器物料溫(wen)度(外接溫(wen)度傳(chuan)感器)三點溫(wen)度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默(mo)生(sheng)谷輪(lun)/丹佛斯渦旋壓縮(suo)機

膨脹閥

丹佛斯(si)/艾默生(sheng)熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯(si)/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度(du)曲(qu)線(xian)顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍(dong)機過(guo)(guo)載保(bao)(bao)護(hu);高壓壓力開關(guan),過(guo)(guo)載繼電(dian)器、熱保(bao)(bao)護(hu)裝置等多種安(an)全保(bao)(bao)障功能。

密閉循環系統

整(zheng)個系統為全(quan)密閉(bi)系統,高溫(wen)時不會(hui)有油霧(wu)、低溫(wen)不吸收空氣中(zhong)水份,系統在運行中(zhong)不會(hui)因為高溫(wen)使(shi)壓力上升,低溫(wen)自動補充導熱(re)介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/






制冷加熱溫度控制系統 生產環節高低溫系統

制冷加熱溫度控制系統 生產環節高低溫系統


  2、生物(wu)(wu)醫(yi)(yi)藥(yao)實(shi)驗:生物(wu)(wu)醫(yi)(yi)藥(yao)實(shi)驗中,細胞(bao)、蛋白質(zhi)等生物(wu)(wu)分子的(de)活性會受到溫度(du)的(de)影響。藥(yao)物(wu)(wu)溶(rong)劑(ji)分離過程溫度(du)控制系統能(neng)夠提供穩定(ding)的(de)溫度(du)環(huan)境,確保實(shi)驗結果的(de)準確性。

  3、化學(xue)反應實驗(yan):化學(xue)反應實驗(yan)中(zhong),藥(yao)物溶劑(ji)分離過程溫度(du)控制系統能夠提供準確的溫度(du)控制,為這類實驗(yan)提供穩定的環(huan)境(jing)。

  4、環境模擬(ni)(ni)實(shi)驗:在環境模擬(ni)(ni)實(shi)驗中,需要(yao)模擬(ni)(ni)不(bu)同氣候條件下(xia)的(de)環境對物體或生物的(de)影響。藥物溶劑分離過程溫度控制系統可以提供(gong)穩定(ding)的(de)溫度環境,為(wei)這類實(shi)驗提供(gong)可靠的(de)保障(zhang)。

  5、電(dian)(dian)子(zi)行業應用:在電(dian)(dian)子(zi)行業中,藥物溶(rong)劑分離過程(cheng)溫(wen)(wen)度控制系(xi)統被廣泛(fan)應用于(yu)芯片測試、電(dian)(dian)路板老化(hua)等實驗中,提供(gong)準(zhun)確的(de)溫(wen)(wen)度控制和(he)穩(wen)定的(de)實驗環境。

藥物(wu)溶劑(ji)分離過程溫(wen)度(du)(du)控(kong)制系(xi)統作(zuo)為一種實驗設備,在(zai)各(ge)種實驗中發(fa)揮著作(zuo)用,隨著科技的不斷進步和應(ying)用需(xu)求的不斷擴大(da),藥物(wu)溶劑(ji)分離過程溫(wen)度(du)(du)控(kong)制系(xi)統的性能和功能也在(zai)不斷提升和完善。




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